《介电常数近零媒质的集成光学掺杂理论及应用》针对介电常数近零（ENZ）媒质及其光学掺杂调控展开研究，介绍了集成化、低损耗的ENZ媒质及光学掺杂的理论与实现方案，并基于近零折射率特性与光学掺杂电磁调控给出一系列电路与天线领域的关键应用。《介电常数近零媒质的集成光学掺杂理论及应用》的内容可以总结为如下三个方面。①基础理论与平台方面：阐述了集成光学掺杂的理论，可解决近零折射率媒质与光学掺杂的损耗问题与平面集成困难。②工程应用方面：介绍了基于集成光学掺杂的电路与天线应用，将近零折射率媒质的独特性质与集成光学掺杂的高效电磁调控引入工程实践，在器件的几何结构灵活性、功能可操控性上相较于传统设计有质的提升。③理论与应用的进一步拓展：将光学掺杂理论从单一掺杂异质体情形拓展至多掺杂异质体情形，阐述了色散编码的理论与应用，介绍了与单元排布无关的超构媒质新范式。本书的读者对象是从事电磁理论及应用工作的学者、工程技术人员及研究生。
